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桌面式磁控濺射儀KT-Z1650PVD，外形小巧方便移動，觸摸屏控制工藝記憶儲存，自動電動擋板閥保護樣品，石英腔室更加潔凈方便清潔。

桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積（PVD）的方法，具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好，成分接近靶材成分等眾多優(yōu)點。

桌面式濺射儀KT-Z1650PVD是一款高度集成化智能化的臺式磁控濺射系統(tǒng)。體積小巧，但是功能出色、配置齊全。配有水冷靶，自動樣品擋板，可調節(jié)濺射源距離，觸摸屏控制，工藝儲存等功能，方便快捷。

小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著緊湊結構的桌上型鍍膜系統(tǒng)，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進行清潔，之后試樣復原，再進行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。

不同的蒸發(fā)速率下沉積300nm的Au薄膜,研究蒸發(fā)速率對薄膜表面形貌和性能的影響。隨著蒸發(fā)速率的提高,薄膜的結構變得致密,晶粒尺寸和表面粗糙度減小。高純度金靶材磁控濺射儀KT-Z1650PVD在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學。